三星电子采用台积电3nm工艺

据韩国媒体报道，三星电子已决定应英伟达要求，采用台积电（TSMC）3nm工艺制造 NVHBM 基础裸片。

关键信息

  • 主体：三星电子、英伟达、台积电

  • 动作：三星应英伟达要求，选用台积电3nm工艺生产 NVHBM 基础裸片

  • 备选方案：三星尚未完全排除使用自有晶圆代工产线


产能验证中

三星正在验证一项可行性：若 NVHBM 需求超出 TSMC 产能，是否可在内部生产基础裸片。目前该方案仍处于评估阶段，尚未定论。